テストソリューション
近年、RF半導体産業の急速な発展に伴い、RFマイクロ波技術は無線セルラー通信、衛星通信、GPS測位・ナビゲーション、車載レーダー、電子料金収受システム、軍事通信など幅広い分野で活用されています。多くの都市では5Gネットワークの展開も進められています。ウェーハレベルのRF及びミリ波（RF＆MmW）特性評価は、RF・ミリ波集積回路の設計デバッグや高効率な半導体デバイスモデリングにおける重要な工程です。しかし、ウェーハレベルRF試験装置（ベクトルネットワークアナライザ、高周波インピーダンスチューナ、結合デバイス、バイアスTなど多数のシステム構成要素）の構築は、高い複雑性と特殊性を要するため、SEMISHAREでは測定精度の確保に多大な作業を要しています.
高周波測定の要求は主にRF電力とRFノイズ特性の測定、信号レベルの計測、Sパラメータ測定、信号源負荷プル測定、インピーダンスマッチングなどを含み、これらのアプリケーションはプローバーシステムに対して、機械的安定性の維持、最短伝送経路の確保、最適測定方向の保持、異種金属試料に対する長時間安定性、高い再現性を伴うスポット測定能力、被測定体端部への正確な補正可能性といった課題を提起しています.
マイクロ波デバイスのSパラメータ測定（振幅・位相・遅延特性などの測定を含む）
1. チャックサイズ6インチ以上、X-Y-Z移動ストローク150mm/150mm/10mm以上、手動/半自動制御モード対応、位置決め精度0.1μm/0.1μm/0.1μm、シータ軸電気回転5°(精度0.001°) 2. チャックは独立吸着孔と多段リングサンプルホルダを採用(各独立制御可能)。吸着孔径500μm以下から選択可能。最大50.8mm×50.8mm～70mm×70mmのセラミック基板に対応し、単体小サイズサンプル(吸着孔径より大きいサイズ)も同時測定可能。吸着カップ治具を装備し、3サイズの多孔質セラミック基板の吸着試験用に位置決めマークを設けています.
